Composition for forming silicon-containing resist underlayer film, multilayer body using said composition, and method for producing semiconductor element

WO2023037979 Art A1 16. März 2023

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023037979
Aktenzeichen: EP22867301
Anmeldetag: 2. September 2022
Veröffentlichung: 16. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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