Process Gas Ramp During Semiconductor Processing

WO2023038905 Art A1 16. März 2023

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023038905
Aktenzeichen: EP22867962
Anmeldetag: 6. September 2022
Veröffentlichung: 16. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/285C23C16/04C23C16/455C23C16/52H01L21/768H10B12/00H10B69/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von