Apparatus and method for actively heating a substrate in an euv light source

WO2023041306 Art A1 23. März 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023041306
Aktenzeichen: EP22769604
Anmeldetag: 25. August 2022
Veröffentlichung: 23. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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