Distortion Current Mitigation in A Radio Frequency Plasma Processing Chamber

WO2023043558 Art A1 23. März 2023

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023043558
Aktenzeichen: EP22870483
Anmeldetag: 15. August 2022
Veröffentlichung: 23. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32H03H7/01

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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