Method for etching mask of magnetic tunnel junction

WO2023045049 Art A1 30. März 2023

Anmelder: Beijing Superstring Academy of Memory Technology 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023045049
Aktenzeichen
EP21958162
Anmeldetag
10. November 2021
Veröffentlichung
30. März 2023
Rechtsraum
WO
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Beijing Superstring Academy of Memory Technology
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Beijing Superstring Academy of Memory Technology

Die Beijing Superstring Academy of Memory Technology ist eine 2020 gegründete chinesische Forschungseinrichtung mit Sitz in Peking, die neue Speicherzellarchitekturen für zukünftige DRAM-Technologien entwickelt. Das Patentportfolio konzentriert sich nahezu vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Datenspeichertechnik. Die noch junge Patenttätigkeit stammt aus den Jahren 2021 bis 2025.

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