Sic semiconductor dry surface treatment device and method

WO2023045101 Art A1 30. März 2023

Anmelder: DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023045101
Aktenzeichen: EP21958212
Anmeldetag: 9. Dezember 2021
Veröffentlichung: 30. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32H01L21/67H01L21/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Dalian University of Technology

Die Dalian University of Technology ist eine chinesische staatliche Universität mit breitem naturwissenschaftlich-technischem Forschungsprofil. Das Portfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Fertigungsverfahren und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2004 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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