Treatment liquid for semiconductor production and treatment method for object to be treated

WO2023047959 Art A1 30. März 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023047959
Aktenzeichen: EP22872715
Anmeldetag: 7. September 2022
Veröffentlichung: 30. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/308H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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