Resist Underlayer Film-Forming Composition

WO2023048021 Art A1 30. März 2023

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023048021
Aktenzeichen: EP22872775
Anmeldetag: 13. September 2022
Veröffentlichung: 30. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C07C211/04C07C211/05C07C211/06C07C309/04C07C309/06C07C309/25C07C309/30C07C309/35C07C309/40C09K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von