Method for designing transparent film structure, apparatus for manufacturing transparent film structure, transparent film structure manufactured by using same, and electromagnetic wave absorbing structure

WO2023048451 Art A1 30. März 2023

Anmelder: CENTER FOR ADVANCED META-MATERIALS, KOREA INSTITUTE OF MACHINERY-MATERIALS 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023048451
Aktenzeichen: EP22873156
Anmeldetag: 20. September 2022
Veröffentlichung: 30. März 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01B5/14H01B1/22H01Q17/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: CENTER FOR ADVANCED META-MATERIALS
KOREA INSTITUTE OF MACHINERY-MATERIALS
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Machinery & Materials

Das Korea Institute of Machinery & Materials ist ein staatliches südkoreanisches Forschungsinstitut für Maschinenbau und Werkstofftechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Werkzeug-, Fertigungs- und Drucktechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Verfahrenstechnik und Messtechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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