Method for analyzing photosensitive composition, method for manufacturing photosensitive composition, and method for manufacturing electronic device

WO2023053838 Art A1 6. April 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023053838
Aktenzeichen: EP22875710
Anmeldetag: 1. September 2022
Veröffentlichung: 6. April 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/223G03F7/038G03F7/039G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von