Mask Fabrication Effects in Three-Dimensional Mask Simulations Using Feature Images

WO2023056012 Art A1 6. April 2023

Anmelder: SYNOPSYS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023056012
Aktenzeichen: EP22793983
Anmeldetag: 30. September 2022
Veröffentlichung: 6. April 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SYNOPSYS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Synopsys

Synopsys ist ein US-amerikanischer Anbieter von Software für den Chip- und Systementwurf (EDA) mit Sitz in Kalifornien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Optik und Elektronik für Entwurfswerkzeuge. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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