A method and apparatus for enhancing ion energy and reducing ion energy spread in an inductively coupled plasma

WO2023059990 Art A1 13. April 2023

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023059990
Aktenzeichen: EP22879386
Anmeldetag: 22. September 2022
Veröffentlichung: 13. April 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32H03H7/01H01L21/67H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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