Metal-containing film formation composition, metal-containing film, metal-containing film formation method, and production method of metal-containing film formation composition

WO2023063207 Art A1 20. April 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023063207
Aktenzeichen: EP22880902
Anmeldetag: 6. Oktober 2022
Veröffentlichung: 20. April 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/08H01L21/288

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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