Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

WO2023067915 Art A1 27. April 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023067915
Aktenzeichen: EP22883227
Anmeldetag: 2. September 2022
Veröffentlichung: 27. April 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F220/10C08K5/095C08K5/17C08K5/20C08K5/375C08K5/45C08L101/02G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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