Exhaust monitoring apparatus and method for substrate processing systems

WO2023069210 Art A1 27. April 2023

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023069210
Aktenzeichen: EP22884234
Anmeldetag: 16. September 2022
Veröffentlichung: 27. April 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G01L19/08G01L19/00G01L19/14G01L13/06H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von