Methods of forming metal nitride films

WO2023069305 Art A1 27. April 2023

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023069305
Aktenzeichen: EP22884286
Anmeldetag: 14. Oktober 2022
Veröffentlichung: 27. April 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/04C23C16/56C23C16/505C23C16/34C23C16/30C23C16/36

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von