Methods for thermal treatment of a semiconductor layer in semiconductor device
WO2023070615
Art A1
4. Mai 2023
Anmelder: YANGTZE MEMORY TECHNOLOGIES CO., LTD. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023070615
- Aktenzeichen
- EP21961967
- Anmeldetag
- 30. Oktober 2021
- Veröffentlichung
- 4. Mai 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/268
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- YANGTZE MEMORY TECHNOLOGIES CO., LTD.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Yangtze Memory Technologies
Chinesisches Unternehmen aus Wuhan, das NAND-Flash-Speicherchips entwickelt und produziert.
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