Photoresist composition, system comprising a photoresist composition, method for producing a three-dimensional structure, and use of a photoresist composition in 3d-printing

WO2023073034 Art A1 4. Mai 2023

Anmelder: KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023073034
Aktenzeichen
EP22805897
Anmeldetag
26. Oktober 2022
Veröffentlichung
4. Mai 2023
Rechtsraum
WO
IPC
B33Y10/00B33Y30/00B33Y70/00G03F7/00G03F7/029G03F7/031G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Karlsruher Institut für Technologie

Deutsche Universität und Forschungseinrichtung in Karlsruhe, entstanden aus Fusion von Universität und Großforschungszentrum, mit Lehre und Forschung in Natur-, Ingenieur- und Technikwissenschaften.

840 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen