Photoresist composition, system comprising a photoresist composition, method for producing a three-dimensional structure, and use of a photoresist composition in 3d-printing
WO2023073034
Art A1
4. Mai 2023
Anmelder: KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023073034
- Aktenzeichen
- EP22805897
- Anmeldetag
- 26. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 4. Mai 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B33Y10/00B33Y30/00B33Y70/00G03F7/00G03F7/029G03F7/031G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Karlsruher Institut für Technologie
Deutsche Universität und Forschungseinrichtung in Karlsruhe, entstanden aus Fusion von Universität und Großforschungszentrum, mit Lehre und Forschung in Natur-, Ingenieur- und Technikwissenschaften.
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