Photosensitive element, and method for forming resist pattern
WO2023074325
Art A1
4. Mai 2023
Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023074325
- Aktenzeichen
- EP22886655
- Anmeldetag
- 7. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 4. Mai 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/027G03F7/031G03F7/033H05K3/06H05K3/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Asahi Kasei
Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.
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