Fxlms structure-based active noise reduction system, method, and device
Anmelder: HUAWEI TECHNOLOGIES CO., LTD., DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023077252
- Aktenzeichen
- EP21962776
- Anmeldetag
- 2. November 2021
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G10K11/178H04R1/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- HUAWEI TECHNOLOGIES CO., LTD.
DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY - Land
- 🇨🇳 China
Chinesisches Technologieunternehmen mit Sitz in Shenzhen. Entwickelt Telekommunikationsinfrastruktur, Netzwerktechnik, Smartphones und weitere Unterhaltungs- und Kommunikationselektronik.
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Die Dalian University of Technology ist eine chinesische staatliche Universität mit breitem naturwissenschaftlich-technischem Forschungsprofil. Das Portfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Fertigungsverfahren und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2004 bis in die Gegenwart belegt.
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