Plating device and substrate-cleaning method
WO2023079632
Art A1
11. Mai 2023
Anmelder: EBARA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023079632
- Aktenzeichen
- EP21963229
- Anmeldetag
- 4. November 2021
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C25D7/12C25D17/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- EBARA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ebara
Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.
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