Liquid circulation system, substrate processing device, and liquid circulation method
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023080017
- Aktenzeichen
- EP22889837
- Anmeldetag
- 25. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02B01J3/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.253 Patente in unserer Datenbank
Die Tokyo University of Science Foundation ist die Trägerstiftung der japanischen Tokyo University of Science und verwaltet deren Patentaktivität. Das Portfolio konzentriert sich auf Medizintechnik/Gesundheit sowie Halbleiter- und Chemietechnik. Die Titel betreffen unter anderem Therapeutika für posttraumatische Belastungsstörungen und chemische Herstellungsverfahren.
285 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.