Plasma chamber with multiphase rotating independent gas cross-flow with reduced volume and dual vhf

WO2023080969 Art A1 11. Mai 2023

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023080969
Aktenzeichen: EP22890590
Anmeldetag: 29. September 2022
Veröffentlichung: 11. Mai 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32C23C16/505C23C16/455C23C16/52H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von