Method and system of image analysis and critical dimension matching for charged-particle inspection apparatus

WO2023083559 Art A1 19. Mai 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023083559
Aktenzeichen
EP22801802
Anmeldetag
14. Oktober 2022
Veröffentlichung
19. Mai 2023
Rechtsraum
WO
IPC
G06T5/00G06T5/50
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML NETHERLANDS B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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