Optical system, microlithographic projection exposure apparatus, method for heating an optical element and method for producing an optical fibre arrangement

WO2023083568 Art A1 19. Mai 2023

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023083568
Aktenzeichen: EP22802611
Anmeldetag: 18. Oktober 2022
Veröffentlichung: 19. Mai 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B6/255

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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