Mask chuck device and vapor deposition device

WO2023084932 Art A1 19. Mai 2023

Anmelder: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023084932
Aktenzeichen: EP22892433
Anmeldetag: 22. September 2022
Veröffentlichung: 19. Mai 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/24C23C14/50C23C16/04C23C16/458H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von