Composition for forming alkoxy group-containing resist underlayer film

WO2023085295 Art A1 19. Mai 2023

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023085295
Aktenzeichen: EP22892793
Anmeldetag: 9. November 2022
Veröffentlichung: 19. Mai 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G59/26C08G59/40G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von