System for monitoring performance of electrostatic chucks in substrate processing systems
WO2023086509
Art A1
19. Mai 2023
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023086509
- Aktenzeichen
- EP22893629
- Anmeldetag
- 10. November 2022
- Veröffentlichung
- 19. Mai 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/67H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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