Systems and methods for defect detection and defect location identification in a charged particle system
WO2023088623
Art A1
25. Mai 2023
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023088623
- Aktenzeichen
- EP22802977
- Anmeldetag
- 18. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06T3/00G06T5/00G06T7/00H01J37/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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