A valve system, liquid target material supply apparatus, fuel emitter, radiation source, lithographic apparatus and flow regulating method

WO2023088646 Art A1 25. Mai 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023088646
Aktenzeichen: EP22805889
Anmeldetag: 26. Oktober 2022
Veröffentlichung: 25. Mai 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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