Method for measuring photomasks for semiconductor lithography

WO2023089057 Art A1 25. Mai 2023

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023089057
Aktenzeichen: EP22818058
Anmeldetag: 17. November 2022
Veröffentlichung: 25. Mai 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F1/84G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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