A liquid target material supplying apparatus, fuel emitter, radiation source, lithographic apparatus, and liquid target material supplying method
WO2023089080
Art A1
25. Mai 2023
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023089080
- Aktenzeichen
- EP22817779
- Anmeldetag
- 18. November 2022
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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