X-ray reflectometry apparatus and method thereof for measuring three dimensional nanostructures on planar substrate
WO2023092059
Art A1
25. Mai 2023
Anmelder: INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 🇹🇼
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023092059
- Aktenzeichen
- EP22896758
- Anmeldetag
- 18. November 2022
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N23/083G01N23/223G01N23/207
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
- Land
- 🇹🇼 Taiwan
🇹🇼
Industrial Technology Research Institute
Taiwanisches Forschungsinstitut für angewandte Technologie, entwickelt und überträgt Innovationen aus Elektronik, Materialwissenschaft und Industrietechnik in die Wirtschaft.
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