Hexagonal ferrite thick film with high remanence ratio and low porosity, and preparation method therefor and application thereof
WO2023093025
Art A1
1. Juni 2023
Anmelder: SOOCHOW UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023093025
- Aktenzeichen
- EP22897121
- Anmeldetag
- 23. Juni 2022
- Veröffentlichung
- 1. Juni 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01F41/16H01P1/38H01F41/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOOCHOW UNIVERSITY
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Soochow University
Soochow University ist eine staatliche Universität in Suzhou, China, mit breitem Fächerspektrum einschließlich Materialwissenschaft und Chemie.
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