An optical device, illumination system, projection system, euv radiation source, lithographic apparatus, deposition of contamination preventing method, and optical component refurbishing method

WO2023094084 Art A1 1. Juni 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023094084
Aktenzeichen: EP22803309
Anmeldetag: 21. Oktober 2022
Veröffentlichung: 1. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/38G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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