Metrology apparatus and method
WO2023096767
Art A1
1. Juni 2023
Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023096767
- Aktenzeichen
- EP22823219
- Anmeldetag
- 14. November 2022
- Veröffentlichung
- 1. Juni 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N15/06G01N21/53G01N21/94H01S3/034H01S3/225G01N21/15
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CYMER, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
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