Metrology apparatus and method

WO2023096767 Art A1 1. Juni 2023

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023096767
Aktenzeichen
EP22823219
Anmeldetag
14. November 2022
Veröffentlichung
1. Juni 2023
Rechtsraum
WO
IPC
G01N15/06G01N21/53G01N21/94H01S3/034H01S3/225G01N21/15
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
CYMER, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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