Apparatuses and techniques for cleaning a multi-station semiconductor processing chamber

WO2023097193 Art A1 1. Juni 2023

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023097193
Aktenzeichen: EP22899494
Anmeldetag: 21. November 2022
Veröffentlichung: 1. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67H01L21/677H01L21/687H01J37/32B08B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von