Resist Underlayer Film Formation Composition Including Hydroxycinnamic Acid Derivative

WO2023100506 Art A1 8. Juni 2023

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023100506
Aktenzeichen: EP22900940
Anmeldetag: 17. Oktober 2022
Veröffentlichung: 8. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G63/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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