Radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, method for manufacturing substrate, and compound

WO2023100574 Art A1 8. Juni 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023100574
Aktenzeichen: EP22901007
Anmeldetag: 31. Oktober 2022
Veröffentlichung: 8. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C59/11C07C61/04C07C62/08C07C62/24C07C69/34C07C309/12C07C309/17C07C381/12G03F7/038G03F7/039G03F7/20G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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