Exposure system, forming method for alignment film, manufacturing method for optical element, and optical element

WO2023101013 Art A1 8. Juni 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023101013
Aktenzeichen: EP22901443
Anmeldetag: 2. Dezember 2022
Veröffentlichung: 8. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B3/02G02B5/04G02B5/30G02B5/32G02B13/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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