Determination of a property of an exposure light beam

WO2023101807 Art A2 8. Juni 2023

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023101807
Aktenzeichen: EP22839924
Anmeldetag: 14. November 2022
Veröffentlichung: 8. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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