Target Asymmetry Measurement For Substrate Alignment in Lithography Systems

WO2023104469 Art A1 15. Juni 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023104469
Aktenzeichen: EP22818064
Anmeldetag: 17. November 2022
Veröffentlichung: 15. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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