Exposure method and exposure system

WO2023105874 Art A1 15. Juni 2023

Anmelder: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA, ADTEC ENGINEERING CO., LTD., FUKUOKA INDUSTRY, SCIENCE&TECHNOLOGY FOUNDATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023105874
Aktenzeichen
EP22903809
Anmeldetag
14. September 2022
Veröffentlichung
15. Juni 2023
Rechtsraum
WO
IPC
G03F9/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
ADTEC ENGINEERING CO., LTD.
FUKUOKA INDUSTRY, SCIENCE&TECHNOLOGY FOUNDATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Ushio Inc.

Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.

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