Developing method, apparatus and system for photoresist mask, and storage medium

WO2023109470 Art A1 22. Juni 2023

Anmelder: TSINGHUA UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023109470
Aktenzeichen: EP22906221
Anmeldetag: 25. November 2022
Veröffentlichung: 22. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TSINGHUA UNIVERSITY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Tsinghua University

Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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