A framework for condition tuning and image processing for metrology applications

WO2023110291 Art A1 22. Juni 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023110291
Aktenzeichen: EP22818421
Anmeldetag: 18. November 2022
Veröffentlichung: 22. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/86G06N3/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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