Verfahren zur Herstellung einer Schutzabdeckung und Euv-Lithographiesystem

WO2023110322 Art A1 22. Juni 2023

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023110322
Aktenzeichen: EP22818445
Anmeldetag: 22. November 2022
Veröffentlichung: 22. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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