Method for producing semiconductor device, and semiconductor device

WO2023112427 Art A1 22. Juni 2023

Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023112427
Aktenzeichen
EP22906962
Anmeldetag
30. September 2022
Veröffentlichung
22. Juni 2023
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/301C09J7/38C09J11/06C09J133/14H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
RESONAC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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