Semiconductor substrate production method and composition

WO2023112672 Art A1 22. Juni 2023

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023112672
Aktenzeichen: EP22907201
Anmeldetag: 30. November 2022
Veröffentlichung: 22. Juni 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C07D209/08C07D209/14C08G61/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von