Release layer-forming composition and release layer
WO2023112764
Art A1
22. Juni 2023
Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2023112764
- Aktenzeichen
- EP22907292
- Anmeldetag
- 6. Dezember 2022
- Veröffentlichung
- 22. Juni 2023
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08L79/08B32B27/34C08G73/10C09D5/20C09D179/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NISSAN CHEMICAL CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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Vertreten von
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