Charged particle device, charged particle assessment apparatus, measuring method, and monitoring method

WO2023117266 Art A1 29. Juni 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023117266
Aktenzeichen
EP22818837
Anmeldetag
22. November 2022
Veröffentlichung
29. Juni 2023
Rechtsraum
WO
IPC
H01J37/04H01J37/12H01J37/244H01J37/26H01J37/28H01J37/317
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML NETHERLANDS B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen